技术英雄

    说堵就堵，绝不含糊，谭二少爷可是个地地道道的行动派。

    在与各大部委热热闹闹的签字仪式进行完毕后，他又随便与闻名前来与他套近乎的，华夏国内的所谓“PC四大金刚”简单应酬了一番，便匆匆登上了飞往米国的班机。

    当然，在登机之前，已经有一份电报被加急发出，并让罗琳女士立刻忙碌了起来。

    在谭振华的心中，手上这件事，可比和“四大金刚”拉拉关系顺便忽悠他们加入“Midoor”行业联盟重要多了，那事回头让虞有成过来处理就好。

    反正这什么“四大金刚”原本发家所依赖的“Wintel”联盟在本时空根本还没成气候就烟消云散了，他也不怕他们反了天去。

    有同学肯定就要问了，这位林本兼到底是何方神圣，居然让二少爷如此心急火燎地要上杆子地想办法将其收入囊中呢？

    那当然是因为，这个人关系到整个半导体行业的未来。

    林本兼，男，华裔，1942年出生于安南，现年44岁，在湾岛就读高中，1970年获得米国俄亥俄州立大

    学电机工程博士，随即进入IBM工作。

    如果说张忠谋是改变了半导体行业整体竞争格局的领导者，那么，林本兼，就是半导体工业界的技术英雄。

    要想清楚地了解他的重要性，还得从半导体制造流程中，最重要，也是技术门槛最高的那一样设备——光刻机说起。

    时光回溯到1959年，那时，伟大的仙童公司已经成立了一年有余，公司的工程师赫尔尼先生在几经周折之后，终于发明了制造扩散型晶体管的“平面处理工艺”，应用这种工艺可以使晶体管制造就像印刷书籍一样高效。

    “平面处理工艺”自诞生之日起，就成为制造集成电路的标准工艺并一直沿用至今，而这一工艺中最关键的一道流程，是把带有电路图的透光片正确投射到硅片上。

    正确执行这道工艺流程的关键设备，就是光刻机。

    起初，所有的光刻机都采用的是所谓“干式”，既以空气为介质的微影技术，这一技术一直沿用到二十世纪90年代，当然，随着技术的不断进步，镜头分辨率越来越高，所用光源的波长越来越短，能加工的晶圆尺寸也越来越大，工作过程也越来越自动化——就像摩尔定律遵循的那样，制造芯片对应的制程工艺也越来越细，从微米级一直下探到了纳米级。

    但忽然有一天，就碰到了无法突破的壁垒，在65纳米制程上卡壳了。

    因为，在很长一段时间内，人类无法突破光刻光源的技术瓶颈，只能使用波长为193nm的光源，却对升级成157nm波长光源所遇到的一系列问题束手无策。

    尽管当时全世界动员了无数的科学家，众多企业和财团为此投入了海量的金钱，但，受到当时基础材料发展及工业加工能力的限制，还是没能迅速解决问题，当时的半导体业界甚至称157nm“是一堵墙”，让所有有志于尝试突破的人都撞得头破血流，这一卡，就是十多年，直到进入了二十一世纪。

    其实，在业界，早有人为此提出了解决方案，1986年，此时还在IBM从事成像技术研究的林本兼提出了一个天才的想法：他认为缩短波长的最佳方案是由“干式微影技术”转向“浸润式”。

    但，就像历史上曾经多次重演过的一样，过于领先的天才想法注定得不到认同，当时整个半导体界还没在光源的波长面前撞墙并吃到苦头，他的“浸润式”技术方案无人问津。

    直到2001年，林本兼离开了IBM并加入了台积电，已经完善了 “浸润式光刻机”理论的他接连发表了三

    篇重量级的学术论文，在论文中他指出：既然157nm难以突破，为什么不退回到技术成熟的193nm，把透镜和硅片之间的介质从空气换成水，由于水的折射率大约为1.4，那么波长可缩短为193/1.4=132nm，大大超过攻而不克的157nm。

    而且这个被称做“浸入式光刻技术”的方案还有其他明显优势，第一，由于是利用现有成熟技术改造，资金投入小，可以给半导体设备制造商节省研发投入，并减小芯片制造商的导入成本；第二，如果把介质从水换成其它高折射率液体，波长还可以进一步缩小到132nm以下，也就是说提高光刻机的分辨率非常方便。

    他开始游说米国、汉斯、倭国的光刻机制造厂们，企图说服大厂们采用“浸入式光刻”方案，但，依然都被拒绝。

    因为这些大厂都为了157nm光源投入了巨量的资金，如果现在放弃，从头研发“浸润式方案”，就意味着前期的巨量投入都打了水漂，是个人想想都会心疼，而且没法向董事会交代——好吧这些企业后来都悔青了肠子。

    最后，林本兼找到了彼得﹒韦尼克，这个在当时最不起眼的在众多大厂的夹缝中勉强生存的光刻机生产厂A**L的CEO，两个落魄的天才终于擦出了火花。

    彼得.韦尼克在拿到了这个方案的时候，立刻就下定了破罐子破摔…搏一把的决心，押上全部身家，与台积电联合研制这台光刻机。

    三年之后的2004年，全球第一台浸润式微影机研-->>

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